期刊文章详细信息
金刚石薄膜的淀积技术及其应用
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河北大学电子系,保定071002
年 份：1993
卷 号：22
期 号：1
起止页码：38-43
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：低温低压下化学气相淀积（ＣＶＤ）金刚石薄膜的技术是人工合成金刚石材料领域的重大进展．该技术能在各种衬底上制备出单晶或多晶金刚石薄膜．金刚石薄膜的淀积技术已受到了世界各国科学家的高度重视．本文简要地叙述了金刚石材料的特性及其应用领域，重点介绍了低温低压下化学气相淀积金刚石薄膜的发展概况和各种典型的淀积技术，最后评述了ＣＶＤ金刚石薄膜的应用现状、需要解决的问题和发展前景．
关 键 词：金刚石 薄膜 化学汽相沉积 沉积
分 类 号：TQ164.8]
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