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期刊文章详细信息

(Sr^(2+),Bi^(3+),Si^(4+),Ta^(5+))掺杂的TiO_2压敏陶瓷中Ta^(5+)的研究    

Investigation of Ta^(5+) in (Sr^(2+),Bi^(3+),Si^(4+))- added TiO_2-Based Varistor

  

文献类型:期刊文章

作  者:孟凡明[1] 胡素梅[2] 傅刚[3] 周方桥[3]

机构地区:[1]安徽大学物理与材料科学学院,安徽合肥230039 [2]茂名学院技术物理系,广东茂名525300 [3]广州大学固体物理与材料研究实验室,广东广州510405

出  处:《材料科学与工程学报》

年  份:2005

卷  号:23

期  号:1

起止页码:96-98

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:研究Ta2 O5对 (Sr,Bi,Si,Ta)掺杂的TiO2 基压敏陶瓷压敏特性及电容特性的影响 ,发现按配方TiO2+0 .3%(SrCO3+Bi2 O3+SiO2 ) +0 .1 %Ta2 O5配制的样品具有最低压敏电压 (E1 0mA =1 .2V·mm- 1 )、最大相对介电常数 (εra=2 .0 0 2× 1 0 5)及较小非线性系数 (α =2 .6 )。考虑到材料的低压敏电压和大介电常数的要求 ,Ta2 O5最佳掺杂量在 0 .0 85mol%与 0 .1mol%之间。

关 键 词:TiO2基压敏陶瓷  压敏电压 非线性系数  介电常数

分 类 号:TN304] TN379

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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