登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

激光照射下的低温氧化生成锗的纳米结构及其特性  ( EI收录 SCI收录)  

Optical constants of Ge nanolayers in oxidation of SiGe alloys determined by ellipsometry

  

文献类型:期刊文章

作  者:黄伟其[1] 刘世荣[2]

机构地区:[1]贵州大学物理系,光电子实验室,贵阳市550026 [2]中国科学院地化所电镜室,贵阳市550003

出  处:《物理学报》

基  金:贵州省自然科学基金 (批准号 :0 0 193 0 2 9)资助的课题~~

年  份:2005

卷  号:54

期  号:2

起止页码:972-976

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2005129008500)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000226916500081)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000226916500081)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:在高精度椭偏仪 (HPE)系统中 ,采用激光照射硅锗合金衬底助氧化的新方法 ,在SiO2 层中生成锗的双纳米面结构 ;并在样品生长过程中 ,用HPE同步测量样品的纳米结构 .用Raman光谱仪测量样品的横断面 ,发现很强的PL发光谱峰 .用量子受限模型和改进的量子从头计算 (UHFR)方法分析了PL光谱的结构 .

关 键 词:激光照射 HPE PL 同步测量 方法分析  生成  发现  从头计算  椭偏仪 纳米结构  

分 类 号:O471]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心