期刊文章详细信息
激光照射下的低温氧化生成锗的纳米结构及其特性 ( EI收录 SCI收录)
Optical constants of Ge nanolayers in oxidation of SiGe alloys determined by ellipsometry
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]贵州大学物理系,光电子实验室,贵阳市550026 [2]中国科学院地化所电镜室,贵阳市550003
基 金:贵州省自然科学基金 (批准号 :0 0 193 0 2 9)资助的课题~~
年 份:2005
卷 号:54
期 号:2
起止页码:972-976
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2005129008500)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000226916500081)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000226916500081)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要:在高精度椭偏仪 (HPE)系统中 ,采用激光照射硅锗合金衬底助氧化的新方法 ,在SiO2 层中生成锗的双纳米面结构 ;并在样品生长过程中 ,用HPE同步测量样品的纳米结构 .用Raman光谱仪测量样品的横断面 ,发现很强的PL发光谱峰 .用量子受限模型和改进的量子从头计算 (UHFR)方法分析了PL光谱的结构 .
关 键 词:激光照射 HPE PL 同步测量 方法分析 生成 发现 从头计算 椭偏仪 纳米结构
分 类 号:O471]
参考文献:
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引证文献:
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同被引文献:
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