文献类型：期刊文章

作　　者：姜德龙[1] 吴奎[1] 王国政[1] 李野[1] 高延军[1] 端木庆铎[1] 富丽晨[1] 田景全[1]

机构地区：[1]长春理工大学光电子技术研究所,吉林长春130022

出　　处：《发光学报》

年　　份：2004

卷　　号：25

期　　号：6

起止页码：737-742

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了微光像管中微通道板离子壁垒膜及其形成技术,研究了其粒子(电子和离子)透过特性。给出了死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线以及半视场对比测试结果;给出采用X射线光电子能谱(XPS)进行成分分析的结果。介绍了离子壁垒膜的离子透过特性,给出了表征膜层对离子阻止能力的离子透过率的概念,提出了离子透过率测试的原理方案和相关技术等问题。

关 键 词：微通道板 离子壁垒膜  免污染成膜工艺  死电压  离子透过率  

分 类 号：TN304]