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多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比 ( EI收录)
Comparative Study on the Tribological Properties of TiN Films Prepared by Multi Arc Ion Plating and Filtered Cathodic Arc Plasma Deposition
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,甘肃兰州730000 [2]兰州大学等离子体与金属材料研究所,甘肃兰州730000
基 金:国家自然科学基金资助项目(10074022).
年 份:2004
卷 号:24
期 号:6
起止页码:498-502
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2005118999461)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布.结果表明:采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的(111)面择优取向;而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞,且无明显取向.在较低载荷下,采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能,其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑;而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑,摩擦系数较高.
关 键 词:磁过滤等离子体沉积 多弧离子镀 氮化钛薄膜 摩擦学性能
分 类 号:TG174.44] TH117.3]
参考文献:
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