文献类型：期刊文章

作　　者：秦艳[1] 严立[1] 朱新河[1]

机构地区：[1]大连海事大学船机修造及金属工艺研究所,辽宁大连116026

出　　处：《大连海事大学学报》

基　　金：教育部高等学校博士学科点专项科研基金资助项目 (970 1 5 1 0 2 )

年　　份：2001

卷　　号：27

期　　号：3

起止页码：92-95

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮 .研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真空设备 ,整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺 .此外 ,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律 .

关 键 词：金属热处理 电介质阻挡放电  常压 等离子体渗氮

分 类 号：TG156.82]