文献类型：期刊文章

作　　者：方云团[1] 沈廷根[2] 谭锡林[3]

机构地区：[1]镇江船艇学院物理系,镇江212003 [2]江苏大学物理系,镇江212003 [3]南京师范大学江苏省光电中心实验室,南京210097

出　　处：《光学学报》

年　　份：2004

卷　　号：24

期　　号：11

起止页码：1557-1560

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2005048806735)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：用特征矩阵法计算了光波在包含多种掺杂缺陷的一维光子晶体中的传播规律 ,与不包含缺陷的结构相比较 ,在禁带中形成缺陷模。缺陷模的位置、数目和强度不仅和缺陷的产生方式有关 ,还和缺陷位置处的光学厚度及折射率的变化有关。当掺杂缺陷的位置呈等间距时 ,相应缺陷模也呈等间距排列。随着掺杂缺陷光学厚度的变化 ,缺陷模的位置、数目也随之变化。保持掺杂缺陷光学厚度不变 ,掺杂缺陷折射率的变化将会引起缺陷模强度的变化 ,并存在一个最大值。缺陷模的出现一般使带隙加宽 ,尤其是掺杂介质的折射率与周期介质的折射率差别较大时更加明显。掺杂空气介质时可使缺陷模的透射率近似为

关 键 词：缺陷模 一维光子晶体 掺杂 禁带 近似  折射率  特征矩阵法  透射率 带隙 光波  

分 类 号：O734] O77