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期刊文章详细信息

真空镀膜技术的现状及进展    

Present Situation and Development of Vaccum Coating Technology

  

文献类型:期刊文章

作  者:邸英浩[1] 曹晓明[1]

机构地区:[1]天津河北工业大学材料学院,300130

出  处:《天津冶金》

年  份:2004

期  号:5

起止页码:45-48

语  种:中文

收录情况:CAS、普通刊

摘  要:介绍了在真空条件下真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀等镀膜技术的概念和这几种真空镀膜技术的特点、应用及发展的前景。

关 键 词:真空蒸发镀  离子镀 磁控溅射 发展趋势  

分 类 号:TG174]

参考文献:

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同被引文献:

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