文献类型：期刊文章

作　　者：李胜林[1] 冯凯[1] 刘浩然[1] 刘国华[1] 张德贤[1]

机构地区：[1]南开大学电子科学与技术系,天津300071

出　　处：《真空科学与技术学报》

年　　份：2004

卷　　号：24

期　　号：4

起止页码：303-305

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在有机材料柔性衬底上沉积ITO膜 ,需要在低温及无损伤 (即避免离子轰击及热损伤等 )情况下进行。为满足此要求 ,采用电子束蒸发法来实现在PI衬底上沉积ITO膜 ,对沉积参数如电子束特性、氧分压及衬底温度对薄膜质量的影响进行了研究 ;对薄膜结构、表面形貌、电学及光学特性进行了检测。最后 ,在PI衬底上获得高质量ITO膜 ,其可见光透过率超过90 % ,电阻率低于 5× 10 -4Ω·cm。

关 键 词：柔性衬底 无损  ITO膜 电子束蒸发法 衬底温度 性能研究 高质量  沉积参数  光透过率  薄膜结构  

分 类 号：TB43] TN304]