文献类型：期刊文章

作　　者：高建华[1] 崔艺涛[1] 杨正[1]

机构地区：[1]兰州大学磁性材料研究所,兰州730000

出　　处：《物理学报》

年　　份：2004

卷　　号：53

期　　号：10

起止页码：3550-3554

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2004498707623)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000224421300059)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：采用交替溅射方法制备了Ni_Zn铁氧体薄膜 ,并研究了薄膜成分和制备条件例如热处理温度、氧分压、膜厚、衬底层等因素对Ni_Zn铁氧体薄膜的影响 .实验表明沉积态薄膜为非晶态 ,经大气中不同温度热处理后得到了尖晶石结构 ,其主峰为 (311)峰 .另外 ,通过不同条件对Ni_Zn铁氧体薄膜的研究 。

关 键 词：薄膜成分  磁性  制备条件  衬底  尖晶石结构 膜厚 溅射 NI-ZN铁氧体 热处理温度 非晶态

分 类 号：O484.1]