期刊文章详细信息
磁控溅射原理的深入探讨
An analysis in depth for the principle of magnetron-sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]核工业西南物理研究院,四川成都610041
年 份：2004
卷 号：41
期 号：4
起止页码：74-79
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：从更深层次——电子在非均匀电磁场中的运动规律 ,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因。对工件温升、临界磁场、脱缚电子的能量及原因。
关 键 词：磁力线走廊 磁阻力 横向磁约束 电子浓度分布 磁控溅射 镀膜
分 类 号：TB43] O53]
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