文献类型：期刊文章

作　　者：陈杨[1] 陈建清[2] 陈志刚[1] 范真[3]

机构地区：[1]江苏工业学院材料系,江苏常州213016 [2]河海大学材料系,江苏南京210098 [3]江苏大学机械学院,江苏镇江212013

出　　处：《摩擦学学报》

基　　金：江苏省自然科学基金资助项目(BK2002010).

年　　份：2004

卷　　号：24

期　　号：4

起止页码：332-335

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2004458452361)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用均相沉淀法制备了纳米CeO2和纳米Al2O3超细粉体,将所制备的超细粉体配制成抛光液并用于硅晶片化学机械抛光,考察了纳米磨料对硅晶片抛光效果及抛光机理的影响.结果表明,纳米CeO2磨料的抛光效果优于纳米Al2O3磨料,采用纳米CeO2磨料抛光硅晶片时可以得到在1μm×1μm范围内微观表面粗糙度Ra为0.089nm的超光滑表面,且表面微观起伏较小.

关 键 词：纳米磨料  单晶硅片 抛光 表面形貌

分 类 号：TG356.28]