期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]同济大学半导体与信息技术研究所,上海200092
基 金:AM基金项目 (0 1 0 1 )
年 份:2004
卷 号:27
期 号:15
起止页码:18-20
语 种:中文
收录情况:IC、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要:对版图设计需要的工艺库 ( technology file)文件、显示 ( display)文件的书写进行了详细分析 ,并对设计规则验证 ( DRC)
关 键 词:工艺库 显示文件 设计规则验证 版图
分 类 号:TN919.81]
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