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纳米Ni-Si_3N_(4-x)复合镀层的超声电沉积机理及工艺研究
Mechanism and Technology of Ultrasonic - Electrodepositing Nano Ni-Si_3N_(4-x) Composite Layer
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]大连大学机械工程系,辽宁大连116622 [2]大庆石油学院机械系,黑龙江大庆151400 [3]东北大学材料科学与工程学院,辽宁沈阳110004
基 金:国家自然科学基金资助项目(50275014)
年 份:2004
卷 号:37
期 号:7
起止页码:29-31
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要: 通过超声电沉积法制备纳米Ni Si3N4-x复合层,研究超声电沉积纳米复合镀层的机理及工艺。在试验的基础上,主要研究了超声波的机械扰动效应、空化效应及脉冲电流对抑制纳米粒子团聚、控制晶粒成核及生长的作用。结果表明,适度功率超声波的引入,可以抑制镀液中纳米粒子的团聚,与高频、窄脉宽脉冲电流作用相结合,可以提高镀液扩散传质效率,加速纳米粒子与基质金属离子共沉积,使纳米陶瓷粒子均匀分散在镀层中,促进基质金属晶体形核并控制其生长,起到细晶强化的作用。获得了由纳米镍晶(20~60nm)和纳米Si3N4-x粒子构成的纳米复合镀层。
关 键 词:超声电沉积 纳米技术 复合镀层
分 类 号:TQ153.2]
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