文献类型：期刊文章

作　　者：赵劲松[1] 李立峰[1] 吴振华[2]

机构地区：[1]清华大学精密仪器系,北京100084 [2]北京光学仪器厂光栅研究室,北京101149

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家 8 6 3计划资助课题

年　　份：2004

卷　　号：24

期　　号：8

起止页码：1146-1150

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在特定的工艺条件下 ,光刻胶的非线性效应非常显著 ;合理地利用非线性效应 ,能够制作出近似矩形的全息光栅掩模。为了分析清楚非线性效应对光栅沟槽成形的作用机理 ,有必要建立一个显影理论模型。模拟得到的光栅轮廓和实验样片的扫描电子显微镜照片结果很吻合。根据这个模型 ,进而使用光栅严格理论 ,得到其主要特征与实时监测实验曲线一致的理论模拟监测曲线。理论分析和实验证实 ,该模型基本表征了工艺条件对光栅沟槽形状的影响 ,并揭示了光刻胶呈现显著非线性效应时 ,必然对应着明暗条纹中心位置之间的显影刻蚀速率相差很大。这个模型为全息光栅的工艺研究提供了一个有效的理论分析工具。

关 键 词：物理光学 全息光栅 显影实时监测  光刻胶 显影模型  光栅掩模  

分 类 号：O436.1]