期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]上海理工大学工业工程研究所/微电子发展研究中心,上海200093
年 份:2004
卷 号:33
期 号:7
起止页码:76-78
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:在半导体制造车间中,设备是非常昂贵的,设备折旧与维修占生产成本组成的最大比重,设备效率的提高显得尤为重要。为了更好地控制设备效率,国际半导体设备与材料组织(SEMI)提出了一种能准确计算设备效率的方法—全面设备效率(OEE)。针对OEE做简要概述,着重论述其在半导体制造厂的实际应用。
关 键 词:设备效率 OEE 半导体制造 设备损失分析 计算方法
分 类 号:TN305]
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