期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]复旦大学微电子学研究所,上海200433
年 份:1993
卷 号:21
期 号:8
起止页码:67-73
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX1992、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:1993121123637)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:本文综述了SiGe-HBT工艺及性能研究的最新进展,提出了若干重要的研究课题.
关 键 词:硅锗应变层 双极型晶体管 异质结
分 类 号:TN322.8]
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