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期刊文章详细信息

硅锗基区异质结双极型晶体管的研究进展  ( EI收录)  

Research Progress on SiGe-Base HBT

  

文献类型:期刊文章

作  者:阮刚[1]

机构地区:[1]复旦大学微电子学研究所,上海200433

出  处:《电子学报》

年  份:1993

卷  号:21

期  号:8

起止页码:67-73

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX1992、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:1993121123637)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:本文综述了SiGe-HBT工艺及性能研究的最新进展,提出了若干重要的研究课题.

关 键 词:硅锗应变层  双极型晶体管 异质结

分 类 号:TN322.8]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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