期刊文章详细信息
不同能量离子束辅助沉积对形成氮化钛薄膜性能的影响 ( EI收录)
The effects of ion beam bombardment on properties of TiN thin films deposited by IBAD
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]天津师范大学物理与电子信息学院材料研究所,天津300074 [2]天津医科大学泌尿外科研究所,天津300020
基 金:天津市自然科学基金资助项目(023613611);天津师范大学与南开大学;天津大学合作资助项目(GJDF01)
年 份:2004
卷 号:35
期 号:4
起止页码:520-523
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要: 用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜。通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank′s模拟体液中的耐腐蚀性能;最后采用成纤维细胞、骨髓细胞体外培养试验考察了生长于不同薄膜表面的细胞粘附、增殖、展布情况及细胞的形态。研究结果表明:用高、低能氮离子兼用的IBAD方法制备的TiN多晶薄膜比只用高能或低能沉积的薄膜具有更强的附着力和耐磨性,在Hank′s模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力,并在细胞体外培养中显示出良好的细胞相容性。
关 键 词:离子束辅助沉积(IBAD) 氮化钛(TiN) 附着力 耐腐蚀 细胞体外培养
分 类 号:O484]
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