登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

不同能量离子束辅助沉积对形成氮化钛薄膜性能的影响  ( EI收录)  

The effects of ion beam bombardment on properties of TiN thin films deposited by IBAD

  

文献类型:期刊文章

作  者:李立[1] 赵杰[1] 李德军[1] 顾汉卿[2]

机构地区:[1]天津师范大学物理与电子信息学院材料研究所,天津300074 [2]天津医科大学泌尿外科研究所,天津300020

出  处:《功能材料》

基  金:天津市自然科学基金资助项目(023613611);天津师范大学与南开大学;天津大学合作资助项目(GJDF01)

年  份:2004

卷  号:35

期  号:4

起止页码:520-523

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要: 用不同能量离子束辅助沉积方法在医用不锈钢317L和Si(100)基底上沉积TiN薄膜。通过X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的结构特征;测试了薄膜与基底的附着力和耐磨性;用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank′s模拟体液中的耐腐蚀性能;最后采用成纤维细胞、骨髓细胞体外培养试验考察了生长于不同薄膜表面的细胞粘附、增殖、展布情况及细胞的形态。研究结果表明:用高、低能氮离子兼用的IBAD方法制备的TiN多晶薄膜比只用高能或低能沉积的薄膜具有更强的附着力和耐磨性,在Hank′s模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力,并在细胞体外培养中显示出良好的细胞相容性。

关 键 词:离子束辅助沉积(IBAD)  氮化钛(TiN)  附着力  耐腐蚀  细胞体外培养

分 类 号:O484]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心