文献类型：期刊文章

作　　者：赵劲松[1] 李立峰[1] 吴振华[2]

机构地区：[1]清华大学精密仪器系,北京100084 [2]北京光学仪器厂光栅研究室,北京101149

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家 8 6 3计划资助课题

年　　份：2004

卷　　号：24

期　　号：6

起止页码：851-858

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了一种实时监测全息光栅曝光过程的新方法。在曝光过程中 ,光刻胶折射率的空间分布发生微小变化 ,由此形成的潜像光栅同时对记录光束产生衍射 (自衍射 ) ,探测一个非零级次的衍射强度的变化就可对曝光过程实时监测。实验证明 ,这种技术能灵敏、客观地探测出样片之间由于个性差异所导致的最佳曝光量的漂移 ,制作者可以借此对曝光时间做实时补偿。发现自监测曲线之线性区的末端存在着一个明显的最佳曝光参考点 ,紧接其后是一个最佳曝光可选择区。采用了一个曝光模型 ,其模拟结果和实验中得到的自监测曲线能很好地吻合。理论分析证实 ,根据实时监测曲线的相对幅值来优化最佳曝光量的方法是很合理的 ,这种实时自监测是一种非常简单、能有效控制曝光量的技术。

关 键 词：全息光栅 衍射光学元件 物理光学 实时潜像监测  光刻胶光栅  光栅制作  曝光模型  

分 类 号：O436.1]