文献类型：期刊文章

作　　者：冯军[1,2] 童洪辉[1] 金凡亚[1] 陈美艳[1] 赖新春[3]

机构地区：[1]核工业西南物理研究院,四川成都610041 [2]南华大学电气工程学院,湖南衡阳421001 [3]四川材料与工艺研究所,四川江油621700

出　　处：《金属热处理》

基　　金：ITER计划国内配套专项课题(2013GB110006);国家自然科学基金(11305054;11305055)

年　　份：2015

卷　　号：40

期　　号：1

起止页码：111-115

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2015_2016、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用直流磁控溅射在316L不锈钢上制备了高质量的Al膜,并利用扫描电镜、X射线衍射仪分别对镀层的形貌和结构及应力进行了分析。结果表明,温度、溅射功率之间的合理配置才能制备致密性高、表面缺陷少的Al膜,较优工艺参数温度为170℃、溅射功率1400 W;温度比溅射功率更容易改善结晶度,当溅射功率高、基体温度低,薄膜趋向非晶态;制备的薄膜应力小,最大约为0.176 GPa,微结构对应力影响大。

关 键 词：铝膜 316L不锈钢  直流磁控溅射 结晶度  致密性 残余应力  

分 类 号：TG174.4]