期刊文章详细信息
不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响 ( EI收录 SCI收录)
Effect of different annealing conditions on the properties of CdS thin films deposited by magnetron sputtering
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海200083 [2]上海太阳能电池研究与发展中心,上海201201
基 金:中国科学院知识创新工程重要方向项目(KGCX2-YW-384);上海市2012年度“科技创新行动计划”节能减排领域项目(12dz1201000)~~
年 份:2013
卷 号:32
期 号:4
起止页码:298-303
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、DOAJ、EI(收录号:20133816756767)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000324362400003)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000324362400003)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用磁控溅射法,在衬底温度300℃制备CdS薄膜,并选取370℃、380℃、390℃三个温度退火,获得在干燥空气和CdCl2源+干燥空气两种气氛下退火的CdS薄膜.通过研究热处理前后CdS薄膜的形貌、结构和光学性能表明,CdS薄膜在干燥空气中退火,晶粒度、表面粗糙度和可见光透过率变化不明显,光学带隙随退火温度的升高而增大;在CdCl2源+干燥空气中退火,随退火温度的升高发生明显的再结晶和晶粒长大,表面粗糙度增大,可见光透过率和光学带隙随退火温度的升高而减小.分析得出:上述性能的改变是由于不同的退火条件对CdS薄膜的再结晶温度和带尾态掺杂浓度改变的结果.
关 键 词:CDS薄膜 磁控溅射 热退火 再结晶 带尾态
分 类 号:TN2]
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引证文献:
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