登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

负偏压对PET上磁控溅射氧化铝薄膜的影响  ( EI收录)  

Bias Voltages and Growth of Sputtered Al_2O_3 Films on Polythylene Terephthalate Substrates

  

文献类型:期刊文章

作  者:林晶[1,2] 刘壮[1] 孙智慧[1] 高德[1]

机构地区:[1]哈尔滨商业大学,哈尔滨150028 [2]印刷包装材料与技术北京市重点实验室,北京102600

出  处:《真空科学与技术学报》

基  金:"十一五"国家科技支撑计划"食品加工关键技术研究与产业化开发"项目;"食品包装新材料研究与开发"课题资助(No.2006BAD05A05);印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题(No.KF200705)

年  份:2009

卷  号:29

期  号:S1

起止页码:91-93

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:以PET(对苯二甲酸已二醇脂)为基体,采用磁控溅射方法在其上制备Al_2O_3阻隔膜,研究负偏压对基体温度、镀膜表面形貌和镀膜化学成份的影响。研究表明,基体温度随着负偏压的增加而升高;Al_2O_3薄膜的表面形貌随着负偏压的增加粗糙度显著降低。XPS分析表明薄膜是满足化学成分配比的Al_2O_3,而且薄膜的成分在较大的负偏压的范围内保持稳定;适当的负偏压有利于提高薄膜的阻隔性。

关 键 词:负偏压  磁控溅射 Al2O3薄膜  

分 类 号:TB484]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心