期刊文章详细信息
负偏压对PET上磁控溅射氧化铝薄膜的影响 ( EI收录)
Bias Voltages and Growth of Sputtered Al_2O_3 Films on Polythylene Terephthalate Substrates
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]哈尔滨商业大学,哈尔滨150028 [2]印刷包装材料与技术北京市重点实验室,北京102600
基 金:"十一五"国家科技支撑计划"食品加工关键技术研究与产业化开发"项目;"食品包装新材料研究与开发"课题资助(No.2006BAD05A05);印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题(No.KF200705)
年 份:2009
卷 号:29
期 号:S1
起止页码:91-93
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:以PET(对苯二甲酸已二醇脂)为基体,采用磁控溅射方法在其上制备Al_2O_3阻隔膜,研究负偏压对基体温度、镀膜表面形貌和镀膜化学成份的影响。研究表明,基体温度随着负偏压的增加而升高;Al_2O_3薄膜的表面形貌随着负偏压的增加粗糙度显著降低。XPS分析表明薄膜是满足化学成分配比的Al_2O_3,而且薄膜的成分在较大的负偏压的范围内保持稳定;适当的负偏压有利于提高薄膜的阻隔性。
关 键 词:负偏压 磁控溅射 Al2O3薄膜
分 类 号:TB484]
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