文献类型：期刊文章

作　　者：周祎[1] 马胜歌[1] 康光宇[1] 耿漫[1]

机构地区：[1]深圳八六三计划材料表面技术研发中心,深圳518029

出　　处：《真空科学与技术学报》

年　　份：2009

卷　　号：29

期　　号：S1

起止页码：77-80

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用激光拉曼光谱、轮廓仪、色差仪、微纳米力学综合测试系统、摩擦磨损试验机等设备,对霍尔等离子体源辅助中频非平衡磁控溅射制备的不同掺氮量的类金刚石薄膜的微观结构及其宏观性能进行了研究。结果表明,随着氩气/氮气流量比的增加,薄膜中的sp^3含量出现极大值,极大值两侧对应着不同的微观机制。同时,薄膜的沉积速率逐渐降低,硬度与弹性模量呈现出先增大后减小。薄膜的颜色主要是黑色并随着氮气含量的增加薄膜反射率在红光波段增强。

关 键 词：掺氮类金刚石薄膜 微观结构 中频非平衡磁控溅射  霍尔等离子体源  

分 类 号：TN304.18]