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期刊文章详细信息

ITO/Rubrene表面及界面的AFM和XPS研究  ( EI收录)  

Surface and Interface Analysis of ITO/Rubrene Using AFM and XPS

  

文献类型:期刊文章

作  者:王金顺[1] 李海蓉[1,2] 彭应全[1,2] 向东旭[1]

机构地区:[1]兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所,甘肃兰州730001 [2]兰州大学物理科学与技术学院磁学重点实验室,甘肃兰州730001

出  处:《发光学报》

基  金:兰州市科技计划(2010-1-1);兰州市城关区科技计划(2011-5-2);信息功能材料国家重点实验室开放课题(12-668)资助项目

年  份:2014

卷  号:35

期  号:2

起止页码:207-212

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、EI(收录号:20141017430438)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱仪(XPS)研究了氧化铟锡(ITO)/红荧烯(Rubrene)的形貌和表面、界面的电子态。AFM结果显示,ITO上的Rubrene膜有良好的均匀性。XPS结果表明:C1s谱有3个峰,位于282.50,284.70,289.30 eV,对应于C—Si、CO和C—C键。用氩离子束溅射表面,芳香碳对应的峰值逐渐增大,其他两个峰值迅速消失。随着表面O污染的去除,O1s峰先快速减弱然后逐渐增强。界面附近的O原子与C原子结合构成OC、C—O—C和醛基。In3d和Sn3d峰则缓慢增强,在界面附近峰值变得稳定。C1s、In3d、Sn3d谱峰都向低束缚能发生化学位移,表明ITO与Rubrene在界面发生了相互作用,形成一个互扩散层。

关 键 词:XPS RUBRENE 化学位移 界面态

分 类 号:TN383+.1] TN304

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