文献类型：期刊文章

作　　者：王岩岩[1] 吴明智[2] 俞友明[1] 王飞[2,3] 吴雪梅[2,3] 诸葛兰剑[2,4]

机构地区：[1]苏州大学文正学院,江苏苏州215006 [2]苏州大学物理科学与技术学院,江苏苏州215006 [3]江苏省薄膜材料重点实验室,江苏苏州215006 [4]苏州大学分析测试中心,江苏苏州215006

出　　处：《苏州大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家自然科学基金(10575073);苏州市科技计划项目(SYJG0901);苏州大学2010年国家级大学生创新性实验计划项目(5731500910);青蓝工程

年　　份：2012

卷　　号：28

期　　号：2

起止页码：54-58

语　　种：中文

收录情况：CAS、普通刊

摘　　要：室温下,采用射频磁控溅射法在单晶硅及石英片上沉积掺铝氧化锌(AZO)薄膜,所用靶材为掺杂Al2 O3的ZnO多晶烧结靶,其中Al2 O3所占质量百分数为2%,分别采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、霍尔效应测试系统和紫外可见分光光度计来研究不同的薄膜厚度对AZO薄膜结构、表面形貌、电学和光学性质的影响.结果表明:制备的AZO薄膜具有良好的c轴择优取向,同时随着薄膜厚度的增加,薄膜结晶性能变好,电阻率降低,可见光透过率减小.薄膜厚度为1 420 nm时具有最佳的光、电特性,其电阻率可降至4.2×10-3Ω.cm,可见光范围的平均透过率大于82%,且在600 nm波段的透过率高达92%.

关 键 词：AZO 磁控溅射 膜厚

分 类 号：O484]