期刊文章详细信息
CVD金刚石薄膜半导体材料的研究进展
DEVELOPMENT OF SYNTHESIZING CVD DIAMOND FILMS FOR SEMICONDUCTOR MATERIALS
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]武汉工程大学材料学院,湖北武汉430073 [2]湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北武汉430073
基 金：湖北省教育厅Q20081505项目的资助;武汉工程大学绿色化工过程省部共建教育部重点实验室开放基金RGCT200801的资助。
年 份：2008
卷 号：14
期 号：3
起止页码：134-139
语 种：中文
收录情况：ZGKJHX、普通刊
摘 要：含Ⅲ族与Ⅴ族元素掺杂的金刚石是宽禁带的半导体材料,同时具有优异的物理和化学特性,在电子器件与光电子器件方面的应用具有极大潜力,成为近几年来国内外研究的热点之一。介绍了目前常用的掺杂方法、技术水平及金刚石半导体的应用前景。
关 键 词：金刚石薄膜 掺杂 半导体 N型 P型
分 类 号：TN304.055]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
