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NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响 ( EI收录)
The effect of NdCl3 concentration on electroplating CoNdNiMnP permanent magnetic film arrays
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]华西大学,材料系,四川,成都,610039 电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054 电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054 电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054 电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054
基 金:国防预研基金资助项目(2000J12.3.2DZ0219);四川省稀土工程研究中心基金资助.
年 份:2004
卷 号:35
期 号:z1
起止页码:715-717
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:基于轻稀土元素-Nd与过渡金属元素-Co之间的铁磁耦合作用提高电镀CoNiMnP永磁薄膜阵列的磁性能,在电镀时引入稀土Nd元素进入CoNiMnP永磁薄膜阵列中,通过改变镀液中NdCl3的浓度而改变CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量.对镀液中NdCl3浓度与薄膜磁性能的关系进行了分析与测试,结果表明:室温下,在电流密度为5mA/cm2时,具有垂直各向异性的CoNdNiMnP永磁薄膜阵列被成功地电镀得到.随着NdCl3浓度的增加,薄膜的磁性能提高,当NdCl3浓度增加到0.25×103g/cm3时,薄膜的磁性能达到最大值,继续增加镀液中NdCl3浓度,薄膜阵列的磁性能不再增加.
关 键 词:CoNdNiMnP永磁薄膜阵列 电镀 垂直各向异性 铁磁耦合
分 类 号:TG174.441] TM273]
参考文献:
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引证文献:
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二级引证文献:
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同被引文献:
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