文献类型：期刊文章

作　　者：俞晓正[1,2] 徐政[3] 沈志刚[1,2]

机构地区：[1]北京航空航天大学粉体技术北京市重点实验室,北京100083 [2]国家纳米技术产业化基地,天津300457 [3]北京有色金属研究总院,北京100088

出　　处：《过程工程学报》

基　　金：航空基金资助项目(编号:05H51046);北京市教育委员会共建项目建设计划资助项目(编号:SYS100060413)

年　　份：2006

卷　　号：6

期　　号：z2

起止页码：173-178

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用磁控溅射方法,开展了在微颗粒表面镀金属膜的实验研究.研究开发了一种在微颗粒表面真空镀金属膜的方法及设备,微颗粒包括空心微珠、不同粒度的碳化硅微粉等,所镀的金属包括铝、银、铜、钴、镍等.实验与分析结果表明,通过控制微颗粒的运动方式,采用磁控溅射镀金属膜,可以在微颗粒表面镀上均匀性好、附着力强和致密性好的金属膜.

关 键 词：微颗粒 磁控溅射 金属膜 表面形貌

分 类 号：TN451]