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期刊文章详细信息

电极电压对纯钛表面微弧氧化陶瓷膜结构及特性的影响  ( EI收录)  

EFFECT OF ELECTRODE VOLTAGE ON MICROSTRUCTURE AND PERFORMANCE OF MICRO-ARC OXIDIZED CERAMIC FILM ON SURFACE OF PURE TITANIUM

  

文献类型:期刊文章

作  者:朱瑞富[1] 王志刚[2] 肖桂勇[1] 李士同[1] 吕宇鹏[1] 隆夫[3] 小林郁夫[3]

机构地区:[1]山东大学材料科学与工程学院,济南250061 [2]山东建筑大学材料科学与工程学院,济南250011 [3]东京医科齿科大学生体材料工学研究所

出  处:《硅酸盐学报》

基  金:江苏省研究生创新计划(JSPIF0731)资助项目

年  份:2008

卷  号:36

期  号:5

起止页码:631-635

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:20082311304010)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用微弧氧化处理技术,在纯钛表面制备了含钙磷的多孔复合陶瓷膜,考察了微弧氧化时的电极电压对复合陶瓷膜的形貌、结构、成分和性能的影响。结果表明:在400~500 V的电压范围内,样品表面均形成了含有钙磷的多孔陶瓷膜,随着电极电压的升高,膜层表面微孔数目减少,孔径增大,膜层厚度增加。在400 V时,膜层的相构成为Ti+锐钛矿相TiO2+Ca3(PO4)2;在450 V和500 V时,膜层的相构成均为Ti+锐钛矿相TiO2+金红石相TiO2,Ca3(PO4)2消失,且随着电压的升高,锐钛矿相TiO2减少,金红石相TiO2增多。膜层中的钙磷摩尔比均随电压的升高而增大。在450 V和500 V时,膜层的临界载荷值分别为29.5 N和14.8 N。

关 键 词:纯钛 微弧氧化 多孔陶瓷膜 结构  

分 类 号:TG174.453]

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同被引文献:

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