文献类型：会议

作　　者：董笑瑜 周培章 万遂人

作者单位：东南大学电子系统可靠性研究中心 江苏 南京 210008 南京三乐电子信息产业集团有限公司 210009 南京三乐电子信息产业集团有限公司 210009 东南大学电子系统可靠性研究中心 江苏 南京 210008

会议文献：中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会论文集

会议名称：中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会

会议日期：20090900

会议地点：宜昌

主办单位：中国电子学会

出版日期：20090900

语　　种：中文

摘　　要：在大功率栅控脉冲行波管中，由于较大栅放而影响产品质量时有发生，采用栅网表面涂覆铪膜是解决栅放问题的有效途径。本文采用磁控溅射沉积方法在钼栅网上制备铪膜;研究了影响铪膜层质量的工艺因素(工作气压、膜料的沉积速率以及钼栅网的电位和温度等)。通过实验得到了优化的沉积工艺参数;推荐磁控溅射1～2um铪膜的优化工艺为：选用氩气作为工作气体，基片与靶材之间的距离为5cm的条件下，其溅射电流3A、电压300V，工作压力1～4Pa，溅射时间60～65min。

关 键 词：磁控溅射沉积 铪薄膜  大功率行波管 表面涂覆

分 类 号：TN124.2] TN103