文献类型：会议

作　　者：潘玉鹏 董磊 孙秀华 李春 余建刚 李德军

作者单位：天津师范大学物理与材料科学学院能源与材料工程中心,天津,300387 天津储能材料表面技术国际联合研究中心,天津,300387

会议名称：中国真空学会2016学术年会

会议日期：20160812

会议地点：昆明

主办单位：中国真空学会

出版日期：20160812

语　　种：中文

摘　　要：通过磁控溅射系统制备出一系列调制周期相同的VN/TiB2 纳米多层膜，通过改变调制比研究其对薄膜性能的影响.利用X 射线衍射分析(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和纳米压痕硬度计表征了薄膜的显微结构、调制结构和机械性能.结果 表明：VN/TiB2 多层膜具有良好的周期性调制结构，调制界面清晰，其硬度出现异常升高，明显高于单层膜的机械性能.在调制比为5：1 出现了硬度峰值(39.3 GPa)，多层膜的残余应力、抗断裂能力和塑料恢复能力也有了较大改善.周期性共格生长的调制结构和VN(200)相取向生长是其产生超硬效应的主要原因.

关 键 词：VN/TiB2纳米多层膜  磁控溅射  调制比  共格生长  透射电子显微镜(TEM)  

分 类 号：TG1] TQ1]