文献类型：会议

作　　者：陈树雷 刘坤 宁英超 蔺增 巴要帅 巴德纯

作者单位：东北大学 机械工程与自动化学院 真空与流体工程研究所,辽宁沈阳,110819

会议名称：中国真空学会2016学术年会

会议日期：20160812

会议地点：昆明

主办单位：中国真空学会

出版日期：20160812

语　　种：中文

摘　　要：聚二甲基硅氧烷(PDMS)具有透光性优良、化学性质稳定、加工简便、价格低廉以及生物兼容性等特点,是目前微流控芯片制备中常见的聚合物有机材料[1-2]。它的高疏水性限制了其在微流控技术领域的进一步应用,因此对PDMS 的表面改性或修饰成为增强应用范围的有效方法。为了提高PDMS 为材料的微通道芯片的浸润性,通过射频磁控溅射的方法在PDMS 芯片溅射二氧化硅(SiO2),通过溅射时间的调节得到不同厚度的SiO2 薄膜。在亲水处理后,立即利用接触角测量仪对PDMS 表面分别进行接触角测量,观测不同条件下的亲水改性效果。结果 表明,在溅射时间较小时,随着建设时间的增加即SiO2 薄膜的增加,PDMS 表面的亲水性得到明显的改善,接触角最高可达到20°以内,经过5 天的空气中老化后,仍可保持较高的亲水性,接触角不超过50°。溅射时间超过80min 后,溅射时间增加,亲水性不再提高。

关 键 词：PDMS芯片  表面改性 磁控溅射 二氧化硅

分 类 号：O65] TP2[化学类]