文献类型：会议

作　　者：蒋雯 王三胜 张玉

作者单位：北京航空航天大学物理科学与核能工程学院微纳测控与低维物理教育部重点实验室 北京100191

会议文献：第16届全国荷电粒子源粒子束学术会议论文集

会议名称：第16届全国荷电粒子源粒子束学术会议

会议日期：20160923

会议地点：湖北宜昌

主办单位：中国电工技术学会;中国物理学会;中国电子学会

出版日期：20160923

语　　种：中文

摘　　要：近年来，以磁控溅射技术为技术支柱的产业在我国已经具有相当大的规模，成为一种主流的工业化技术，将该技术运用于高性能磁性功能膜制备具有重要的意义。在磁控溅射过程中，被溅射靶材的负高压击穿充满两极之间的氩气，形成辉光放电，荷能粒子氩离子轰击固体表面时，从靶材表面释放出来的原子和分子就是溅射成膜的材料源。轰击粒子的能量和分布等则很大程度上取决于溅射气压。对于同一溅射功率条件下，通过电动插板阀和氩气流量计的双重控制实现对工作气压的改变，从而得到一系列工作气压下，不同轰击粒子能量条件下的溅射成膜样品，获得了高质量的具有高巨磁阻抗比的铁镍薄膜。采用XRD、SEM、MFM、AFM等对于薄膜微观结构进行了表征，并结合MPMS磁滞回线分析进行磁化状态的讨论，发现制作的薄膜有利于设计制作高灵敏、高稳定性的新型磁传感器件，甚至对于自旋器件的研发也有着一定的指导意义。

关 键 词：磁控溅射 轰击粒子  阻抗变化率  磁传感器

分 类 号：TG1] O61]