文献类型：会议

作　　者：唐军 洪梦庆 任峰 蔡光旭 蒋昌忠

作者单位：武汉大学物理科学与技术学院离子束功能材料研究中心

会议文献：2017中国材料大会(cmc2017)论文集

会议名称：2017中国材料大会(cmc2017)

会议日期：20170708

会议地点：银川

主办单位：中国材料研究学会

出版日期：20170708

语　　种：中文

摘　　要：为了进一步研究脉络状纳米多孔道氮化铬薄膜在加温辐照和常温辐照后退火条件下的抗辐照性能。在 500 ℃ 下用30 keV 2×1017 ions/cm2 的He+辐照含有不同纳米孔道密度的CrN RT、CrN 500、CrN 600薄膜和密实的CrN 薄膜;在500 ℃ 下用380 keV 1×1016 ions/cm2 的Ar2+辐照 CrN RT 纳米孔道薄膜和密实的CrN 薄膜;将在室温下用30keV、剂量分别为1×1017 到3×1017 ions/cm2 的He+辐照后的样品在 500 ℃下真空退火4 个小时。用TEM、SEM 和GIXRD 研究了氮化铬薄膜微观结构的变化。

关 键 词：脉络状纳米多孔道薄膜  加温辐照  高温退火 透射电子显微镜

分 类 号：TQ1] X59]