会议论文详细信息
多弧离子镀膜机弧源温度场的模拟研究
文献类型：会议
作者单位：沈阳,东北大学,机械工程与自动化学院真空与流体工程研究所
会议文献：第十三届国际真空科学与工程应用学术会议论文集
会议名称：第十三届国际真空科学与工程应用学术会议
会议日期：20170813
会议地点：沈阳
主办单位：中国真空学会;中国机械工程学会
出版日期：20170813
语 种：中文
摘 要：弧源是多弧离子镀膜机的重要结构之一，在实际的工业生产过程中，所制备涂层表面颗粒大是始终困扰技术进步的难题。其根本原因是弧斑过于集中造成靶材过热，形成熔池产生溶液飞溅。本文通过对弧源内部温度场的模拟研究，利用ANSYS等模拟软件分析各个因素对于弧源冷却的影响，并根据模拟结果对弧源的冷却结构提出改进，从而有效减少涂层的大颗粒问题。
关 键 词：弧源 大颗粒 冷却
分 类 号：TG7] TN3]
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