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会议论文详细信息

屏蔽气体对氩等离子体冲击射流的影响       

文献类型:会议

作  者:程凯 陈熙 潘文霞 王海兴

作者单位:清华大学航天航空学院工程热物理研究所(北京) 中国科学院力学研究所(北京)

会议文献:中国工程热物理学会2004年传热传质学学术会议论文集(下册)

会议名称:中国工程热物理学会2004年传热传质学学术会议

会议日期:20041001

会议地点:吉林

主办单位:中国工程热物理学会

出版日期:20041001

语  种:中文

摘  要:在空气环境中利用氩等离子体射流进行材料加工时,环境空气进入射流可能会引起材料氧化.采用同轴屏蔽气是减小这种不利影响的一种可行方案.为此本文对空气环境中层流氩等离子体冲击射流受屏蔽气体影响的问题进行了数值模拟研究,重点考察了屏蔽气速度等对射流中氧含量的影响.

关 键 词:氩等离子体 冲击射流 屏蔽气体  射流卷吸 组分扩散  材料加工  数值模拟 等离体加工  

分 类 号:TG664]

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同被引文献:

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