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准分子脉冲激光(KrF)的化学气相掺杂研究
文献类型：会议
作者单位：绍兴文理学院数理信息学院物理系,光电材料研究所,绍兴,312000 兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000
会议名称：第五届全国光子学大会
会议日期：20041018
会议地点：黄山
主办单位：中国光学学会
出版日期：20041018
语 种：中文
摘 要：本文应用准分子脉冲激光KrF (248 nm) 和BCl3气体研究了激光化学气相的掺杂特性。应用C-V法对P-Si(100)掺杂样品的杂质浓度进行了分析, 发现脉冲激光气相掺杂与激光能量密度有密切关系，其能量密度阈值为0.75J／cm2。在一定的能量密度下，通过控制脉冲激光数, 可实现δ-掺杂、调制掺杂和P＋型重掺杂等不同要求的掺杂。说明应用脉冲激光可进行有效的调制掺杂，可精确地控制器件各层中的载流子浓度分布。
关 键 词：准分子脉冲激光 Δ掺杂 脉冲激光
分 类 号：TN241]
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