文献类型：会议

作　　者：牛新环 刘玉岭 檀柏梅 马振国

作者单位：河北工业大学信息学院微电子学所 河北工业大学信息学院微电子学所 河北工业大学信息学院微电子学所 河北工业大学信息学院微电子学所

基　　金：高等学校博士学科点专项科研基金(20050080007);国家自然科学基金(10676008)

会议文献：第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（10）

会议名称：第六届中国功能材料及其应用学术会议

会议日期：20071100

会议地点：中国湖北武汉

主办单位：重庆仪器材料研究所;中国仪器仪表学会仪表材料分会;国家仪表功能材料工程技术研究中心

出版单位：国家仪表功能材料工程技术研究中心、中国仪器仪表学会仪表...

出版日期：20071100

学会名称：中国仪器仪表学会仪表材料分会

语　　种：中文

摘　　要：利用磨料为 SiO的碱性抛光液对蓝宝石衬底材料进行了化学机械抛光,并对蓝宝石衬底化学机械抛光（简称 CMP）的机理进行了深入的研究,指出了蓝宝石 CMP 的主要的动力学过程,并详细分析了影响各动力学过程的诸要素．结果表明,蓝宝石衬底的 CMP 过程是一个复杂的多相反应过程,是化学作用与机械作用互相加强和促进的过程,影响它的各要素间既相互促进,又相互制约．

关 键 词：化学机械抛光 蓝宝石衬底 机理  去除速率 动力学过程

分 类 号：TG175]