会议论文详细信息
基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法
文献类型：会议
作者单位：[1]西安工业大学科技处 [2]南京理工大学电光学院
会议文献：第十二届全国光学测试学术讨论会论文（摘要集）
会议名称：第十二届全国光学测试学术讨论会
会议日期：20080720
会议地点：中国吉林长春
主办单位：中国光学学会光学测试专业委员会
出版日期：20080700
学会名称：中国光学学会光学测试专业委员会
语 种：中文
摘 要：本文提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法,利用该方法对一个实际SiO薄膜样片进行了测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据处理,实现了对薄膜厚度的测量。研究结果表明:该方法具有非接触式、高精度、高空间分辨率、集光机电算于一体等特点,进而为薄膜工艺的进一步研究提供检测方法上的工程化保障。
关 键 词：干涉术 相位偏移 厚度测量
分 类 号：O484.5]
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