文献类型：会议

作　　者：刘征 毛雪 李润植

作者单位：山西农业大学农业生物工程中心 山西农业大学农业生物工程中心 山西农业大学农业生物工程中心

会议文献：中国生物工程学会第三次全国会员代表大会暨学术讨论会论文摘要集

会议名称：中国生物工程学会第三次全国会员代表大会暨学术讨论会

会议日期：20010000

主办单位：中国生物工程学会

出版日期：20010000

学会名称：中国生物工程学会

语　　种：中文

摘　　要：大麦Yd2基因是禾谷类作物及近缘野生种各类抗源中对大麦黄矮病毒(Barley Yellow Dwarf Virus,BYDV)最有效的抗源,在抗病育种实践上已应用长达40多年。与许多抗病基因不同,Yd2基因介导的抗病性不表现过敏反应,不能阻止病毒在植株体内系统扩散,但却能显著抑制病毒的复制,赋予寄主植物对BYDV持久抗病性。我们先期研究表明,常用来克隆植物抗病基因的转座子标签法和PCR法不适于克隆Yd2这一编码产物及序列未知的基因,可行的途径是采用图谱克隆法。我们已建立了一个完整的Yd2基因区域高饱和度的分子标记图谱。在此基础之上,本文选用与Yd2基因紧密连锁的分子标记对Yd2基因区域进行物理做图,以期准确测算出Yd2基因区域遗传图距(cM)与物理距离(bp)的关系。这是能否成功

关 键 词：基因组 物理距离 黄矮病毒 Yd2  图谱构建  

分 类 号：S435.123]