文献类型：会议

作　　者：董玉明

作者单位：江南大学化学与材料工程学院,光响应功能分子材料国家级国际联合研究中心

会议文献：中国化学会第十六届全国光化学学术讨论会会议论文集（2019）

会议名称：中国化学会第十六届全国光化学学术讨论会（2019）

会议日期：20191012

会议地点：中国山东济南

出版日期：20191000

学会名称：中国化学会

语　　种：中文

摘　　要：光催化过程由串联的3个环节构成:光的有效吸收,光生电子和空穴的分离和转移,界面氧化反应和还原反应,其中界面反应是整个过程的速度控制步骤。在吸光半导体材料表面负载助催化剂可以加快表面反应,提高光催化效率。目前报道的多数助催化剂是采用常规的物理或者化学方法沉积到吸光物质表面,助催化剂在吸光物质表面随机分布,无法实现位置匹配。光化学沉积法可以将助催化剂定点沉积到光生载流子的出口处,实现更加快速地电荷传输和利用。自2014年起,我们课题组利用光化学还原法,在g-C3N4和CdS上定点沉积了过渡金属单质、磷化物、硫化物,且均表现出优异的光催化制氢活性。此外,通过探讨光还原过程的影响因素,发现了配位作用和牺牲剂对光化学沉积过程的重要影响。这些工作表明,光化学还原沉积过渡金属基还原助催化剂具备一定的可行性,为开发高效低成本的光催化剂提供了新的途径。

关 键 词：光催化 光化学还原 定点沉积  助催化剂

分 类 号：O643.36] O644.1[化学类]