文献类型：会议

作　　者：王英 杨明来 张效岩 蔡炳初 徐东 张亚非

作者单位：上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室 保定天河电子技术有限公司 上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室

基　　金：上海交通大学青年教师校内科研启动基金资助项目

会议文献：中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）

会议名称：中国微米、纳米技术第七届学术会年会

会议日期：20050800

会议地点：中国大连

主办单位：中国机械工程学会

出版单位：中国机械工程杂志社

出版日期：20050800

语　　种：中文

摘　　要：采用LB(langmuir-blodgett)排布技术制备了大面积高密度的FePt纳米粒子单层膜,利用纳米粒子单层膜作为掩模,通过反应离子刺蚀技术进行了纳米刘蚀研究。实验结果表明,采用纳米拉子单层膜作为掩模,通过控制反应离子刻蚀条件可以实现纳米级(小于50nm)的纳米点阵和纳米柱的刻蚀。

关 键 词：LB膜 纳米粒子  掩模 纳米刻蚀

分 类 号：TN305.7]