文献类型：会议

作　　者：韩丽

作者单位：河北工程大学土木工程学院材料工程系

会议文献：中国真空学会2012学术年会论文摘要集

会议名称：中国真空学会2012学术年会

会议日期：20120921

会议地点：中国甘肃兰州

主办单位：中国真空学会(Chinese Vacuum Society)

出版日期：20120921

学会名称：中国真空学会

语　　种：中文

摘　　要：金属镍膜可用在电磁波屏蔽、纤维传感器,手机、平板电脑保护玻璃装饰等。目前制备镍薄膜的方法主要有溅射法、化学气相沉积法(CVD)法、化学电镀法等。国内大多采用化学电镀法,此方法需要在反应液中进行,对环境可能产生危害,且制备的薄膜不够均匀,附着力差。磁控溅射法制备薄膜,膜层结构均匀,致密,性能良好,薄膜与基材附着牢固,在导电、抗静电、防辐射、电磁屏蔽等方面的应用具有显著的优势,且在机械、电子和陶瓷等领域已得到广泛的应用。目前磁控溅射法制备薄膜材料主要选择金属、塑料、玻璃作为基材;在本实验中,选择玻璃作为基材,研究了气体压强、溅射功率、行车速度等对薄膜性能的影响,最终得到透过率为50%的半反半透镍膜,此膜可以用在手机和平板电脑的LCD显示屏保护玻璃上,当LCD背光灯处于关闭状态时,具有镜面作用,使人可以把手机或平板电脑当镜子使用;当LCD灯打开时,可以看到内部LCD显示的图像,是一种非常时尚且带有装饰效果的功能显示膜。采用直流磁控溅射法在玻璃基板上制备的半透明镍膜,用原子力显微镜(AFM)分析溅射功率对镍膜的表面粗糙度的影响,用分光光度计测试了不同条件下镍膜的透过率,用台阶厚度仪分析了不同条件下金属膜的厚度。结果表明,薄膜的表面粗糙度随溅射功率的增加而增大,控制一定量的功率可以得到透过率为50%的半透镍膜。

关 键 词：磁控溅射 镍膜  液晶显示 真空

分 类 号：TN304.055]