专利详细信息
文献类型:专利
专利类型:发明专利
是否失效:否
是否授权:否
申 请 号:CN200710007935.2
申 请 日:20070201
申 请 人:西门子公司 保罗谢勒研究所
申请人地址:德国慕尼黑
公 开 日:20110706
公 开 号:CN101011250B
代 理 人:邵亚丽;李晓舒
代理机构:11105 北京市柳沈律师事务所
语 种:中文
摘 要:本发明涉及一种用于产生检查对象(7,P)的相位对比照片的X射线设备的焦点-检测器装置(F<Sub>1</Sub>,D),其包括:-设置在检查对象第一侧的具有用于产生扇形或锥形射束(S<Sub>i</Sub>)的焦点(F<Sub>1</Sub>)的辐射源(2),-至少一个在射线途径中设置的X射线光学光栅(G<Sub>0</Sub>,G<Sub>1</Sub>,G<Sub>2</Sub>),其中,至少一个在检查对象(7、P)相对的第二侧在射线途径中设置的相位光栅(G<Sub>1</Sub>),其产生一个在X射线的优选预定能量区域内X射线的干涉图形,以及-分析检测系统(G<Sub>2</Sub>,D<Sub>1</Sub>),其至少分辨位置地针对相位移检测由相位光栅(G<Sub>1</Sub>)产生的干涉图形,-其中,按照本发明,至少一个X射线光学光栅(G<Sub>0</Sub>,G<Sub>1</Sub>,G<Sub>2</Sub>)具有在所述扇形或锥形射束(S<Sub>i</Sub>)的射线途径中没有形成遮挡的悬幕的栅条。
主 权 项:1.一种用于产生检查对象(7,P)的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备的焦点-检测器装置(F1,D),其组成至少如下:1.1.设置在检查对象第一侧的具有用于产生扇形或锥形射束(Si)的焦点(F1)的辐射源(2),1.2.至少一个在射线途径中设置的X射线光学光栅(G0,G1,G2),其中,至少一个在检查对象(7,P)的相对的第二侧在射线途径中设置的相位光栅(G1),该相位光栅产生一个在X射线辐射的优选为预定能量区域内X射线辐射的干涉图形,以及1.3.分析检测系统(G2,D1),该分析检测系统至少分辨位置地针对相位移检测由相位光栅(G1)产生的干涉图形,其特征在于,1.4.至少一个X射线光学光栅(G0,G1,G2)具有在所述扇形或锥形射束(Si)的射线途径中没有形成遮挡的悬幕的栅条,其中1.5.所述至少一个X射线光学光栅(G0,G1,G2)设计为在第一截面平面内围绕着焦点(F1)弯曲,1.6.通过向所述至少一个光栅(G0,G1,G2)施加压力来实现该光栅的弯曲。
关 键 词:射线 光学光栅 相位光栅 射束 分析检测系统 检测器装置 能量区域 相位对比 辐射源 检查 相位移 干涉 焦点 栅条 分辨 检测
IPC专利分类号:A61B6/00(20060101);G01N23/04(20060101);G01N23/20(20060101);G01N23/06(20060101);H05G1/02(20060101);H05G1/62(20060101);G01T1/28(20060101);G01T7/00(20060101);G21K1/06(20060101);G21K1/02(20060101)
参考文献:
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耦合文献:
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引证文献:
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同被引文献:
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