文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN200710007954.5

申 请 日：20070201

发 明 人：乔基姆·鲍曼 克里斯琴·戴维 马丁·恩格尔哈特 乔尔格·弗罗伊登伯格 埃克哈特·亨普尔 马丁·霍黑赛尔 托马斯·默特尔迈耶 弗朗兹·法伊弗 斯蒂芬·波普斯库 曼弗雷德·舒斯特

申 请 人：西门子公司 保罗谢勒研究所

申请人地址：德国慕尼黑

公 开 日：20110615

公 开 号：CN101011253B

代 理 人：邵亚丽;李晓舒

代理机构：11105 北京市柳沈律师事务所

语　　种：中文

摘　　要：本发明涉及一种用于产生投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备(1)的焦点-检测器装置(F，D)。按照本发明，相位光栅(G<Sub>1</Sub>)在其栅条(S)之间的栅空(L)内填加其在关键能量区域内的线形衰减系数比栅条高的填料(B)，其中，一方面可以将填料(B)的高度(h<Sub>xF</Sub>，h<Sub>xyF</Sub>)设计成，使得用于测量相位移的能量的X射线产生一个在X射线中的相位移(<Image file="200710007954.5_AB_0.GIF" he="23" imgContent="undefined" imgFormat="GIF" wi="21"/>)，致使在经过相位光栅(G<Sub>1</Sub>)后穿过栅条(S)的射线(a)与穿过带有填料(B)的栅空(L)的射线b相比具有半个波长(λ/2)的相位移，以及另一方面将填料(B)的高度(h<Sub>xF</Sub>，h<Sub>xyF</Sub>)设计成，使得至少针对用于测量相位移(<Image file="200710007954.5_AB_0.GIF" he="23" imgContent="undefined" imgFormat="GIF" wi="21"/>)的能量X射线在穿过栅条(S)时和穿过填料(B)时的衰减相同。

主 权 项：1.一种用于产生检查对象(7，P)的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备(1)的焦点-检测器装置(F，D)，其组成至少如下：1.1.用于产生X射线辐射以及透射检查对象(7，P)的辐射源(2)，1.2.在射线途径内安置在检查对象(7，P)之后的相位光栅(G1)，该相位光栅产生一个在X射线辐射的预定能量区域(E)内X射线辐射的干涉图形，和1.3.分析检测系统，该分析检测系统至少分辨位置地针对相位移检测由相位光栅(G₁)产生的干涉图形，其特征在于，1.4.所述相位光栅(G₁)在其栅条(S)之间的栅空(L)内填加在关键能量区域内的线形衰减系数比栅条高的填料(B)，另外，1.5.一方面将所述填料(B)的高度(h_xF，h_xyF)尺寸设计成，使得用于测量相位移的能量及波长(λ)的X射线辐射产生一个在X射线辐射中的相位移()，致使在经过相位光栅(G₁)后穿过栅条(S)的射线(a)与穿过带有填料(B)的栅空(L)的射线(b)相比具有半个波长(λ/2)的相位移，1.6.以及另一方面将所述填料(B)的高度(h_xF，h_xyF)尺寸设计成，使得至少针对用于测量相位移()的能量X射线辐射在穿过栅条(S)时和穿过填料(B)时的衰减相同。

关 键 词：相位移  栅条  相位光栅 射线 检测器装置  能量区域  衰减系数  相位对比 波长  衰减  断层 投影  焦点  

IPC专利分类号：A61B6/00(20060101);G01N23/04(20060101);G01N23/20(20060101);G01N23/06(20060101);H05G1/02(20060101);H05G1/62(20060101);G01T1/28(20060101);G01T7/00(20060101);G21K1/06(20060101);G21K1/02(20060101)