专利详细信息
文献类型:专利
专利类型:发明专利
是否失效:否
是否授权:否
申 请 号:CN200710007958.3
申 请 日:20070201
申 请 人:西门子公司 保罗谢勒研究所
申请人地址:德国慕尼黑
公 开 日:20111005
公 开 号:CN101011254B
代 理 人:邵亚丽;李晓舒
代理机构:11105 北京市柳沈律师事务所
语 种:中文
摘 要:本发明涉及一种X射线装置的焦点和检测器系统和用于产生投影或断层造影相位对比图像的方法,包括:具有焦点(F<Sub>1</Sub>)和设置在焦点一侧的源光栅(G<Sub>0</Sub>)的辐射源(2),该源光栅设置在辐射路径中并产生射线相干的X射线(S<Sub>i</Sub>)场;具有相位光栅(G<Sub>1</Sub>)和检测器(D<Sub>1</Sub>)的光栅/检测器装置,该相位光栅具有平行于源光栅(G<Sub>0</Sub>)的光栅线用以产生相干图案,该检测器具有多个平面设置的检测器元件(E<Sub>i</Sub>)用以测量相位光栅后的取决于位置的辐射强度;检测器元件(E<Sub>i</Sub>)由多个纵向闪烁条纹(SS<Sub>i</Sub>)形成,闪烁条纹平行于相位光栅(G<Sub>1</Sub>)的光栅线并且具有小周期(p<Sub>s</Sub>),该周期的整数倍对应于相干图案的、由相位光栅形成的平均的大周期(p<Sub>2</Sub>)。
主 权 项:1.一种用于产生投影或断层造影相位对比图像的X射线装置的焦点和检测器系统,至少包括:1.1.具有焦点(F1)和设置在焦点一侧的源光栅(G0)的辐射源(2),其中该源光栅设置在辐射路径中并产生射线相干的X射线(Si)场,1.2.具有相位光栅(G1)和检测器(D1)的光栅/检测器装置,其中该相位光栅具有平行于源光栅(G0)的光栅线用以产生相干图案,该检测器具有多个平面设置的检测器元件(Ei)用以测量在相位光栅后的、取决于位置的辐射强度,1.3.其中,所述检测器元件(Ei)由多个纵向闪烁条纹(SSi)构成,这些闪烁条纹平行于相位光栅(G1)的光栅线并且具有小周期(ps),该周期的整数倍对应于由相位光栅(G1)形成的、相干图案的平均的大周期(p2)。
关 键 词:光栅 相位光栅 检测器 检测器元件 相干图案 条纹 焦点 平行 闪烁 检测器系统 检测器装置 测量相位 辐射路径 辐射强度 相位对比 辐射源 断层 射线 投影 图像
IPC专利分类号:A61B6/00(20060101);G01N23/04(20060101);G01N23/20(20060101);G01N23/06(20060101);H05G1/02(20060101);H05G1/62(20060101);G01T1/28(20060101);G01T7/00(20060101);G21K1/06(20060101);G21K1/02(20060101)
参考文献:
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耦合文献:
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引证文献:
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同被引文献:
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