专利详细信息
文献类型:专利
专利类型:发明专利
是否失效:否
是否授权:否
申 请 号:CN200710007967.2
申 请 日:20070201
申 请 人:西门子公司 保罗谢勒研究所
申请人地址:德国慕尼黑
公 开 日:20111019
公 开 号:CN101013613B
代 理 人:邵亚丽;李晓舒
代理机构:11105 北京市柳沈律师事务所
语 种:中文
摘 要:本发明涉及一种用于产生检查对象(7,P)的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备(1)的焦点-检测器装置(F,D)的X射线光学透射光栅(G<Sub>x</Sub>),其具有大量的周期地布设在至少一个晶片的至少一个表面上的栅条(S)和栅空(L),其中,所述X射线光学透射光栅(G<Sub>x</Sub>)由至少两个沿射线方向直接相继地布设的子光栅(G<Sub>x1</Sub>,G<Sub>x2</Sub>)组成。
主 权 项:1.一种用于产生检查对象(7,P)的投影或断层造影的相位对比照片的X射线设备(1)的焦点-检测器装置(F,D)的X射线光学透射光栅(Gx),其具有大量的周期地布设在至少一个晶片的至少一个表面上的栅条(S)和栅空(L),其特征在于,所述X射线光学透射光栅(Gx)由至少两个沿射线方向直接相继地布设的子光栅(Gx1,Gx2)组成,其中,1.1.透射的X射线辐射的射线分布形状成扇形或圆锥形,1.2.所述沿射线方向相继布设的子光栅(Gx1,Gx2,Gx3)具有不同的光栅周期(gx1,gx2,gx3),其中,1.3.所述光栅周期(gx1,gx2,gx3)从至少一个子光栅(Gx1)到至少一个后续的子光栅(Gx2)这样增大以及所述子光栅(Gx1,Gx2,Gx3)这样相互对准地布设,即,使得射线束的射线(Si)或者只穿过栅空(L)或者只穿过栅条(S)。
关 键 词:光学透射光栅 检测器装置 光栅 射线方向 相位对比 晶片 栅条 断层 投影 焦点 检查
IPC专利分类号:G21K1/06(20060101);A61B6/00(20060101);G01N23/04(20060101);G01T7/00(20060101)
参考文献:
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耦合文献:
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引证文献:
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二级引证文献:
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同被引文献:
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