文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN200910048696.4

申 请 日：20090401

发 明 人：唐永兴 熊怀 李海元 陈知亚

申 请 人：中国科学院上海光学精密机械研究所 上海大恒光学精密机械有限公司

申请人地址：201800 上海市800-211邮政信箱

公 开 日：20090916

公 开 号：CN101531468A

代 理 人：张泽纯

代理机构：31213 上海新天专利代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：一种折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，采用先碱催化后酸催化的方法制备涂膜液，适用于浸涂法、或喷涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜层，高温热处理后得到多孔性二氧化硅膜层。本发明制备的膜层具有高硬度、高化学稳定性、自洁性好和宽带减反的特点。

主 权 项：1、一种折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，其特征在于该方法是采用先碱催化后酸催化的方法制备含有三维结构二氧化硅纳米颗粒和一维、二维结构硅氧链的复合纳米结构的涂膜液，适用于浸涂法、或喷涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜层，高温热处理后得到纯无机的多孔性二氧化硅膜层。

关 键 词：多孔性二氧化硅  膜层 催化  高温热处理 化学稳定性  制备方法  制备涂膜  高硬度  基膜层  喷涂法 折射率 基板  浸涂 宽带  旋涂  自洁  

IPC专利分类号：C03C17/23(20060101);G02B1/11(20060101)