文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201010144611.5

申 请 日：20100412

发 明 人：吴昌琳

申 请 人：苏州博创同康生物工程有限公司

申请人地址：200062 上海市普陀区金沙江路895弄55号101室

公 开 日：20101006

公 开 号：CN101849850A

代 理 人：徐小蓉

代理机构：31214 上海申蒙商标专利代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明仿生原位再生修复纳米补片为由带阳离子基团材料的A层及带阴离子基团材料的B层依次叠加形成，其中带阳离子基团材料的A层占补片的质量百分比为20%-80%，其余为带阴离子基团材料的B层。带阳离子基团材料的A包括带阳离子基团多糖、带阳离子基团蛋白或带阳离子基团多肽(聚肽)中的至少一种；带阴离子基团材料的B包括带阴离子基团多糖、带阴离子基团蛋白或带阴离子基团多肽(聚肽)中的至少一种，功能因子和/或功能多肽的添加占补片的质量百分比为不超过10%。本发明所用原料为可体内降解的具有生物相容性材料，补片柔软，组织黏附性好，适应脏器表面的凹凸，抗拉伸及抗气压性能强，适合缺损组织的黏贴、封闭、堵漏、止血、隔离、修复、防止粘连及人工脑膜方面的用途，也可用于作为药物的缓释载体及纳米级组织工程支架材料。

主 权 项：1.一种仿生原位再生修复纳米补片，其特征在于所述补片的构成方式是由带阳离子基团材料的A层及带阴离子基团材料的B层依次叠加形成，其中所述的依次叠加指的是，由[（A+B）n+A]或[（B+A）n+B]的构成方式，其中叠加次数n可为正整数。

关 键 词：阳离子基团  阴离子基团  多肽  聚肽 蛋白  组织工程支架材料 生物相容性材料 修复  功能多肽  功能因子  人工脑膜 体内降解 原位再生  脏器表面  止血  纳米级  黏附性  粘连  堵漏  缓释  拉伸  黏贴  气压  叠加  隔离  封闭  

IPC专利分类号：A61B17/03(20060101);A61M31/00(20060101);A61L31/12(20060101)