文献类型：专利

专利类型：发明专利

是否失效：否

是否授权：否

申 请 号：CN201110261047.X

申 请 日：20110905

发 明 人：贾嘉 赵月昌 李冉 曹红霞 蒙素玲 赵秀娟

申 请 人：上海华明高纳稀土新材料有限公司

申请人地址：201613 上海市松江区繁华路81号

公 开 日：20120215

公 开 号：CN102352188A

代 理 人：罗大忱

代理机构：31242 上海金盛协力知识产权代理有限公司

语　　种：中文

摘　　要：本发明公开了一种精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉及其制备方法，精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉，含有如下重量份的组分：氧化铈50-95％，氧化锆5-40％，氧化铁0.1-10％。采用本发明制备的抛光粉，具有成本低，抛光粉的悬浮性小，耐磨性高，抛光粉的有效利用率高，产品质量稳定等优点，可应用于液晶显示、光学元件、集成电路等领域的精密抛光加工。

主 权 项：1.精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉，其特征在于，含有如下重量份的组分：氧化铈  50-95％氧化锆  5-40％氧化铁  0.1-10％。

关 键 词：抛光粉 稀土抛光粉 基固溶体  精密型  铈锆  有效利用率  耐磨性  光学元件  精密抛光  液晶显示 制备方法  质量稳定  悬浮性  氧化铁  氧化铈 氧化锆  集成电路  

IPC专利分类号：C09G1/02(20060101)